光刻機：光刻機是制造芯片的關鍵設備。它利用超高壓光源將芯片設計中的電路圖案投射到光刻膠覆蓋的硅片上。光刻機具有高精度、精確的圖案轉移能力，對于制造微小且復雜的電路非常重要。

化學氣相沉積（CVD）設備：CVD設備用于在芯片制造過程中進行薄膜的沉積。它通過將氣體化學物質引入反應室中，在硅片表面上沉積出非常薄的材料層，如硅氧化物這些薄膜層在芯片制造過程中用于隔離電路、提供絕緣或導電性能。

離子注入機（Ion Implanter）：離子注入機用于在芯片上注入離子，改變硅片中的導電特性。通過控制離子注入的能量和濃度，可以在芯片上創(chuàng)建不同的區(qū)域，形成晶體管等電子元件的結構。

形成激光精密機：激光精密機用于在芯片上去除不需要的材料，以電路的結構。它利用激光束來精確地去除薄膜層或刻蝕硅片表面，以實現芯片設計中所需的圖形。51漫畫

清洗設備：在芯片制造過程中，清洗設備用于提高制造過程中產生的損耗、消耗物和有害物質。清洗對于確保芯片質量和可靠性至關重要。